The summary of this accident has not yet been translated. In the meantime, please refer to the French summary :

Dans une unité de chlorosilane, une faible fuite (0,7 kg) de tétrachlorure de silicium (SiCl4), accompagnée d’un dégagement de chlorure d’hydrogène (HCl), se produit lors d’une maintenance sur l’installation de remplissage de SiCl4. Aucune conséquence sur les personnes ou sur l’environnement n’est relevée, le nuage d’HCl formé ayant été abattu à l’aide d’eau. L’ouverture accidentelle de l’une des 2 vannes automatiques à commande pneumatique, placées provisoirement en bout de circuit du fait du retrait du bras de transfert pour la maintenance, est à l’origine de l’accident. Pour éviter l’ouverture intempestive de ces 2 vannes pendant la durée des travaux, l’exploitant devait installer un by-pass dans l’armoire de commande. L’accident est survenu lors de la mise en place de ce dernier. Pour diminuer la probabilité de renouvellement d’un tel accident, la procédure de maintenance est modifiée, la sécurisation des 2 vannes automatiques sera désormais réalisée par l’arrêt de l’alimentation en air du circuit de commande.